RECUBRIMIENTOS DE (Ti,Al)N SOBRE ACERO AISI 4140 POR SPUTTERING REACTIVO

Empleando la técnica de Pulverización catódica con radiofrecuencia y magnetrón (Magnetrón Sputtering RF), se prepararon películas de (Ti,Al)N sobre sustratos de acero AISI 4140. Se utilizo un blanco formado con polvos metálicos de Ti y Al, con composición nominal 60% Ti y 40% Al (porcentaje en átomos) y una razón de presiones parciales de nitrógeno - argon, PN2/PAr de 0,1 aproximadamente; la temperatura del sustrato se vario entre 260 y 330 oC y el tiempo de deposición entre 2 y 4,5 horas para obtener películas con diferentes espesores. La composición química de las películas se determino mediante la técnica de energía dispersada de rayos X (EDX), y su topografía mediante microscopia de fuerza atómica (AFM). Igualmente se midió micro dureza, y se determino su comportamiento electroquímico mediante espectroscopia de impedancia electroquímica EIS y ensayos TAFEL. Las películas obtenidas presentaron granos globulares, uniformes y de