Publicado

2007-05-01

RECUBRIMIENTOS DE (Ti,Al)N SOBRE ACERO AISI 4140 POR SPUTTERING REACTIVO

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Autores/as

  • Danna García Universidad Pedagógica y Tecnológica de Colombia
  • Ulises Piratoba Universidad Pedagógica y Tecnológica de Colombia
  • Álvaro Marino Universidad Nacional de Colombia
Empleando la técnica de Pulverización catódica con radiofrecuencia y magnetrón (Magnetrón Sputtering RF), se prepararon películas de (Ti,Al)N sobre sustratos de acero AISI 4140. Se utilizo un blanco formado con polvos metálicos de Ti y Al, con composición nominal 60% Ti y 40% Al (porcentaje en átomos) y una razón de presiones parciales de nitrógeno - argon, PN2/PAr de 0,1 aproximadamente; la temperatura del sustrato se vario entre 260 y 330 oC y el tiempo de deposición entre 2 y 4,5 horas para obtener películas con diferentes espesores. La composición química de las películas se determino mediante la técnica de energía dispersada de rayos X (EDX), y su topografía mediante microscopia de fuerza atómica (AFM). Igualmente se midió micro dureza, y se determino su comportamiento electroquímico mediante espectroscopia de impedancia electroquímica EIS y ensayos TAFEL. Las películas obtenidas presentaron granos globulares, uniformes y de

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Cómo citar

[1]
D. García, U. Piratoba, y Álvaro Marino, «RECUBRIMIENTOS DE (Ti,Al)N SOBRE ACERO AISI 4140 POR SPUTTERING REACTIVO», DYNA, vol. 74, n.º 152, pp. 181–185, may 2007, Accedido: 22 de septiembre de 2026. [En línea]. Disponible en: https://revistas.unal.edu.co/index.php/dyna/article/view/921

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