Microestructura de recubrimientos de nitruros metálicos de transición producidos con la técnica de sputtering asistido con campos magnéticos variables.

La microestructura de un recubrimiento de nitruros metálicos de transición (NMT) esta determinada por un gran número de parámetros de depósito, que incluyen la temperatura del sustrato, presión de trabajo, la presión parcial del nitrógeno, la potencia de la descarga, la polarización negativa en el sustrato y la razón de flujos iones / átomos incidentes en el sustrato. Todos estos parámetros controlan la movilidad de los  átomos depositados y con ello la microestructura y la composición química del recubrimiento. Un entendimiento detallado de la interacción de la microestructura con las propiedades es importante, ya que el tipo de morfología y la orientación preferencial del recubrimiento influyen en las propiedades mecánicas, químicas, ópticas y eléctricas de las películas. En este artículo se describen las principales teorías que resumen el fenómeno de la orientación preferencial en los recubrimientos de nitruros metálicos de transición producidos con un sistema de sputtering asistido con campos magnéticos.

The microstructure of transition metallic nitride coatings is determined by the deposit parameters, which include the substrate temperature, work pressure, partial pressure of nitrogen, discharge power, substrate polarization and the ion to atom flux ratio. All these parameters can control the mobility of atoms, which change the microstructure and the chemical composition of the films. On the other side, the preferential orientation of the coating influences also the mechanical, chemical, optical and electrical properties of the films. In this article the main theories on the phenomenon of the preferential orientation of transition nitride metallic films produced by unbalanced magnetron system are summarized.